反滲透膜元件的汙染與清洗

反滲透膜元件的汙染與清洗

在正常運行一段時間後，反滲透膜元件會受到給水中可能存在的懸浮物或難溶鹽的汙染，這些汙染中最常見的是碳酸鈣沉澱、硫酸鈣沉澱、金屬(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)

氧化物沉澱、矽沉積物、無機或有機沉積混合物、NOM天然有機物質、合成有機物(如：阻垢劑/分散劑，陽離子聚合電解質)、微生物 (藻類、黴

菌、真菌)等汙染。汙染性質和汙染速度取決於各種因素，如給水水質和係統回收率。通常汙染是漸進發展的，如不盡早控製，汙染將會在相對較短的時間內損壞膜元件。

當膜元件確證已被汙染，或是在長期停機之前，或是作為定期日常維護，建議對膜元件進行清洗。

當反滲透係統（或裝置）出現以下症狀時，需要進行化學清洗或物理衝洗：在正常給水壓力下，產水量較正常值下降10～15%；為維持正常的產水量，經溫度校正後的給水壓力增加10～15%；

產水水質降低10～15%，透鹽率增加10～15%；給水壓力增加10～15%；係統各段之間壓差明顯增加。

保持穩定的運行參數主要是指產水流量、產水背壓、回收率、溫度及TDS。如果這些運行參數起伏不定，海德能公司建議檢查是否有汙染發生，或者在關鍵運行參數有變化的前提下 , 反滲透的實際運行是否正常。


定時監測係統整體性能是確認膜元件是否已發生汙染的基本方法。汙染對膜元件的影響是漸進的，並且影響的程度取決於汙染的性質。


已受汙染的反滲透膜的清洗周期根據現場實際情況而定。海德能公司建議，正常的清洗周期是每3-12個月一次。


當膜元件僅僅是發生了輕度汙染時，重要的是清洗膜元件。重度汙染會因阻礙化學藥劑深入滲透至汙染層，影響清洗效果。


清洗何種汙染物以及如何清洗要根據現場汙染情況而進行。對於幾種汙染同時存在的複雜情況，清洗方法是采用低PH和高PH的清洗液交替清洗（應先低PH後高PH值清洗）。