1%-2%檸檬酸溶液或0.4%HCl溶液,適用於鐵汙染及碳酸鹽結晶汙堵;
0.2%NaClO+0.1%NaOH溶液,適用於清洗由有機物及活性生物引起的超濾膜組件的汙染;
0.3%H2O2+0.3%NaOH溶液,適用於清洗由穀氨酸發酵液引起的超濾膜組件的汙染;
1%甲醛溶液,適用於細菌汙染的超濾;
HNO3:0.5%水溶液,適用中磷酸鉛對超濾造成的汙堵(此清洗必須在其他常規化學清洗之後進行。);
清洗劑配方:20%的Na2CO3、7%的Na3PO4、3%的NaOH、0.5%的EDTA,主要用於膠體汙染物造成的膜汙染;
清洗劑配方:9%的十二烷基苯磺酸鈉、9%的表麵活性劑、0.4%的NaOH、0.15的無水碳酸鈉、11%的磷酸鈉、10%的矽酸鈉,清洗時需注意pH的控製,有些膜不適用於高pH清洗液的清洗,要慎重選擇,主要用於清洗含油廢水所造成的膜汙染;
清洗劑配方:3%的H3PO4、0.5%的乙二胺四乙酸二鈉、0.5%的LBOW專用清洗劑,主要用於清洗蛋白質和油脂汙染物造成的汙染。
清洗劑配方:20%的H2SO4,主要用於超濾係統中矽垢結晶造成的汙染。
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