反滲透膜元件的汙染與清洗（二）

五、清洗液的選擇

常規清洗液配方提供的清洗溶液是將一定重量（或體積）的化學藥品加入到100加侖（379升）的潔淨水中（RO產品水或不含遊離氯的水）。溶液是按所用化學藥品和水量的比例配製的。溶劑是RO產品水或去離子水，無遊離氯和硬度。清洗液進入膜元件之前，要求徹底混和均勻，並按照目標值調pH值且按目標溫度值穩定溫度。常規的清洗方法基於化學清洗溶液循環清洗一小時和一種任選的化學藥劑浸泡一小時的操作而設定的。

六、常規清洗液介紹

1、溶液1

（W）檸檬酸（C6H8O7）的低pH清洗液。用於去除無機鹽垢（如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等）、金屬氧化物/氫氧化物（鐵、錳、銅、鎳、鋁等）及無機膠體十分有效。

2、溶液2

（W）鹽酸低pH清洗液，主要用於去除無機物垢（如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等），金屬氧化物/氫氧化物（鐵、錳、銅、鎳、鋁等），及無機膠體。這種清洗液比溶液1要強烈些，因為鹽酸（HCl）是強酸。

3、溶液3

（W）氫氧化鈉高pH清洗液。用於去除聚合矽垢。這一洗液是一種較為強烈的堿性清洗液。

七、 RO膜元件的清潔和衝洗程序

RO膜元件可置於壓力容器中，在高流速的情況下，用循環的清潔水（RO產品水或不含遊離氯的潔淨水）流過膜元件的方式進行清洗。RO的清洗程序完全取決於具體情況，必要時更換用於循環的清潔水。

RO膜元件的常規清洗程序如下：

在60psi（4bar）或更低壓力條件下進行低壓衝洗，即從清洗罐中（或相當的水源）向壓力容器中泵入清潔水然後排放掉，運行幾分鍾。衝洗水是潔淨的、去除硬度、不含過渡金屬和餘氯的RO產品水或去離子水。

在清洗罐中配製特定的清洗溶液。配製用水須是去除硬度、不含過渡金屬和餘氯的RO產品水或去離子水。溫度和pH應調到所要求的值。

啟動清洗泵將清洗液泵入膜組件內，循環清洗約一小時或是要求的時間。在起始階段，清洗液返回至RO清洗罐之前，將回流液排放掉，以免係統內滯留的水對清洗溶液造成稀釋。在開始的5分鍾內，慢慢地將流速調節到設計流速的1/3。這可以減少由汙物的大量沉積而造成的潛在汙堵。在下一個5分鍾內，增加流速至設計流速上限的2/3，然後，再增加流速至設計的流速值上限。如果需要，當pH的變化大於1，就要重新調回到原數值。

根據需要，可交替采用循環清洗和浸泡程序。浸泡時間建議選擇1至8小時。要謹慎地保持合適的溫度和pH。

化學清洗結束之後，要用清潔水（去除硬度、不含金屬離子如鐵和氯的RO產品水或去離子水）進行低壓衝洗，從清洗裝置/部件中去除化學藥劑的殘留部分，排放並衝洗清洗罐，然後再用清潔水完全注滿清洗罐以作衝洗之用。從清洗罐中泵入所有的衝洗水衝洗壓力容器至排放。如果需要，可進行再次清洗。

一旦RO係統已用貯水罐中的清潔水完全衝洗後，就可用預處理給水進行低壓衝洗。給水壓力應低於60psi（4bar），衝洗持續進行直至衝洗水幹淨，且不含任何泡沫和清洗劑殘餘物。通常這需要15~60分鍾。操作人員可用幹淨的燒瓶取樣，搖勻，監測排放口處衝洗水中洗滌劑和泡沫的殘留情況。洗液的去除情況可用測試電導的方法進行，如衝洗水至排放出水的電導在給水電導的百分之十以內，可認為衝洗已接近終點；

pH表也可用於測定，來比較衝洗水至排放出水與給水的pH值是否接近。

一旦所有級段已清洗幹淨，且化學藥劑也已衝洗掉，RO可重新開始置於運行程序中，但初始的產品水要進行排放並監測，直至RO產水可滿足工藝要求（電導、pH值等）。為得到穩定的RO產水水質，這一段恢複時間有時需要從幾小時到幾天，尤其是在經過高pH清洗後。

八、反滲透膜的化學清洗與水衝洗

清洗時將清洗溶液以低壓大流量在膜的高壓側循環，此時膜元件仍裝在壓力容器內而且需要專門的清洗裝置來完成該工作。

清洗反滲透膜元件的一般步驟：

1、用泵將幹淨、無遊離氯的反滲透產品水從清洗箱（或相應水源）打入壓力容器中並排放幾分鍾。

2、用幹淨的產品水在清洗箱中配製清洗液。

3、將清洗液在壓力容器中循環1小時或預先設定的時間。

4、清洗完成以後，排淨清洗箱並進行衝洗，然後向清洗箱中充滿幹淨的產品水以備下一步衝洗。

5、用泵將幹淨、無遊離氯的產品水從清洗箱（或相應水源）打入壓力容器中並排放幾分鍾。

6、在衝洗反滲透係統後，在產品水排放閥打開狀態下運行反滲透係統，直到產品水清潔、無泡沫或無清洗劑（通常15~30分鍾）。