反滲透膜常用的清洗方法及藥劑配方（下）

四、清洗反滲透膜元件的一般步驟

1、用泵將幹淨、無遊離氯的反滲透產品水從清洗箱（或相應水源）打入壓力容器中並排放幾分鍾。

2、用潔淨的水在清洗箱中配製清洗液。

3、將清洗液在壓力容器中循環1小時或預先設定的時間，對於8英寸或8.5英寸壓力容器時，流速為35~40加侖/分鍾 （133~151升/分鍾） ，對於6英寸壓力容器流速為15~20加侖/分鍾 （57~76升/分鍾） ，對於4英寸壓力容器流速為9~10加侖/分鍾 （34~38升/分鍾）

4、清洗完成以後，排淨清洗箱並進行衝洗，然後向清洗箱中充滿幹淨的水以備下一步衝洗。

5、用泵將幹淨、無遊離氯的水從清洗箱（或相應水源）打入壓力容器中並排放幾分鍾。

6、在衝洗反滲透係統後，在排放閥打開狀態下運行反滲透係統，直到產品水清潔、無泡沫或無清洗劑（通常需15~30分鍾） 。

五、反滲透膜汙染特征及處理方法

1、細菌汙染

一般特征：脫鹽率可能降低、係統壓降明顯增加、係統產水量明顯降低；

清洗方法：pH值10，三聚磷酸鈉溶液，EDTA四鈉（嚴重時更換為Na-DDBS），溫度40℃；NaOH和SDS，pH=11.5。

2、硫酸鈣汙染

一般特征：脫鹽率明顯降低、係統壓降稍有或適度增加、係統產水量稍有降低；

清洗方法：pH值10，三聚磷酸鈉溶液，EDTA四鈉（嚴重時更換為Na-DDBS），溫度40℃；有時也可用pH小於10的NaOH水溶液清洗。

3、有機物沉澱

一般特征：脫鹽率可能降低、係統壓降逐漸升高、係統產水量逐漸降低；

清洗方法：pH值10，三聚磷酸鈉溶液，EDTA四鈉（嚴重時更換為Na-DDBS），溫度40℃。

4、氧化物/氫氧化物（鐵、鎳、銅）汙染

一般特征： 脫鹽率明顯下降、係統壓降明顯升高、係統產水量明顯降低。

清洗方法：氨水調pH值4，檸檬酸溶液，溫度40℃，有時也可以用pH2-3的鹽酸水溶液清洗。

5、無機鹽沉澱物汙染

一般特征： 脫鹽率明顯下降、係統壓降增加、係統產水量稍降

清洗方法：檸檬酸溶液，氨水調pH值4，溫度40℃，也可用pH2-3的鹽酸水溶液清洗。

6、各種膠體（鐵、有機物及矽膠體）汙染

一般特征： 脫鹽率稍有將低、係統壓降稍有上升、係統產水量逐漸減少。

清洗方法：硫酸調pH值10，三聚磷酸鈉STTP溶液，溫度40℃；有時也可以用pH小於10的NaOH水溶液清洗。

六、反滲透膜清洗幾種常用配方

清洗配方一：

檸檬酸溶液或HCl溶液，適用於鐵汙染及碳酸鹽結晶汙堵；

清洗配方二：

NaClO+aOH溶液，適用於清洗由有機物及活性生物引起的膜組件的汙染；

清洗配方三：

H2O2+NaOH溶液，適用於清洗由穀氨酸發酵液引起的膜組件的汙染；

清洗配方四：

甲醛溶液，適用於細菌汙染的超濾；

清洗配方五：

HNO3水溶液，適用於電泳漆處理過程中磷酸鉛對膜組件造成的汙堵（此清洗須在其他常規化學清洗之後進行。）；

清洗配方六：

Na2CO3、Na3PO4、NaOH、EDTA，主要用於膠體汙染物造成的膜汙染；

清洗配方七：

十二烷基苯磺酸鈉、表麵活性劑、NaOH、無水碳酸鈉、磷酸鈉、矽酸鈉，清洗時需注意pH的控製，有些膜不適用於高pH清洗液的清洗，要慎重選擇，主要用於清洗含油廢水所造成的膜汙染；

清洗配方八：

H3PO4、乙二胺四乙酸二鈉、LBOW專用清洗劑，主要用於清洗蛋白質和油脂汙染物造成的汙染。

清洗配方九：

H2SO4，主要用於矽垢結晶造成的汙染。

RO膜元件是反滲透設備係統中重要的部分，其日常維護的好壞直接影響到係統出水水質的好壞，這裏對於反滲透膜的清洗方法加以概述，係統說明反滲透膜在運行中可能出現的汙染物以及相對應的清洗方法。